[衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時 如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘...

原題:
[衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時,如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘膜2mm，處理方法是

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初戴上頜局部義齒時,如果發(fā)現(xiàn)彎制的后腭桿離開腭粘膜2mm，處理方法是
A.不必處理
B.腭桿組織面加自凝樹脂重襯
C.腭桿組織面緩沖
D.去腭桿，讓患者戴走
E.取下腭桿，戴義齒取印模，在模型上重新加腭桿
答案：
E